刻蝕製程溫度有多高

刻蝕溫度一般介於35～45℃之間

刻蝕，英文爲Etch，它是半導體制造工藝，微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻[1]相聯繫的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。所謂刻蝕，實際上狹義理解就是光刻腐蝕，先透過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理，然後透過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。