光刻顯影的原理

顯影是在正性光刻膠的曝光區和負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形的一種光刻技術。

光刻技術就是在需要刻蝕的表面塗抹光刻膠，乾燥後把圖形底片覆蓋其上，有光源照射，受光部分即可用藥水洗掉膠膜，沒有膠膜的部分即可用濃酸濃鹼腐蝕表面。腐蝕好以後再洗掉其餘的光刻膠。現在為了得到細微的光刻線條使用紫外線甚至X射線作為光源。