nil是什麼表面處理

NIL（納米壓印光刻）技術是在一個特殊的“印章”上，先刻上納米電路圖案，然後再將電路圖案“壓印”在晶圓上，就像蓋章一樣。目前，NIL被當作一種刻畫32nm以下工藝芯片電路的替代方法。由於NIL沒有鏡頭，相比EUV要更加經濟。

NIL技術最早由華裔科學家周鬱（Stephen Chou）教授在1995年首次提出納米壓印概念。由於NIL採用的是機械複製，可以排除光學繞射的影響，理論上可以實現比光刻更高的分辨率，而且它的成本比EUV要低很多。