垂直髮射裝置原理
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導彈發射時導彈姿態呈垂直狀態的一種發射方式。垂直髮射主要用於發射地地和潛地彈道導彈。具有發射裝置簡單、場地面積小、導彈升空快、動力損失小等特點。
發射時可利用地面或艇體(船體)來抵消導彈發射時產生的後坐力,與傾斜發射相比,簡化了發射裝置的結構。有些地空導彈、艦空導彈及巡弋飛彈也採用這種發射方式。
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發射裝置
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