![5d光刻机是什么水平 2]( "5d光刻机是什么水平 2")
- 2、5d光刻机可以做到4纳米。所谓2.5d光刻机实际指的是芯片制造领域内作为后道工序的封装光刻机，至于封装光刻机能做到几纳米要看前道光刻机制程是几纳米的，因为2.5d光刻机的技术要求远远小于光刻机，所以前道光刻机出几纳米制程的，2.5d就能做到几纳米的。比如上海微电子能制造...
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![光刻机最小尺寸]( "光刻机最小尺寸")
- 90纳米。封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步。光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。光刻机的最小分辨率由公示R=kλ/NA，其中R代表可分辨的最小尺寸，对于光刻技术来说R越小越好，k是工艺常数，λ是光刻机所用光源的波长。光刻机最小尺...
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![中国首台光刻机成功了吗]( "中国首台光刻机成功了吗")
- 成功了。国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。...
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![我国光刻机最高水平是多少]( "我国光刻机最高水平是多少")
- 我国光刻机最高技术仍旧是上海微电子研究所的90nm工艺，它的SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能够达到90nm工艺水平。而像江苏无锡影幻半导体公司、合肥芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。...
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![中国7nm光刻机自主了吗]( "中国7nm光刻机自主了吗")
- 没有自主。国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法...
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![利扬芯片用的是什么光刻机]( "利扬芯片用的是什么光刻机")
- 利扬芯片不用光刻机。利扬芯片主要是对芯片做测试的，不需要用到光刻机。利扬芯片主要从事集成电路生产、测试、封装、技术开发，探针卡、治具、测试板设计、开发及销售，仓储（除危险化学品），货物及技术进出口。利扬芯片主要是对其他公司送来的芯片做测试，而不是用光刻机制造芯片，所...
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![上微28nm光刻机2022能交付吗]( "上微28nm光刻机2022能交付吗")
- 28纳米光刻机有可能2022年交付。上微28nm光刻机有可能在2022年内交付。去年年底的时候上海微电子的28nm光刻机通过技术检测和验证，不过之后就一直没传出什么消息。如果顺利的话应该可以今年角度于企业并安装调试。不过有消息说华卓精科与清华共同研制的双工件台没有达到预...
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![芯片与光刻机区别]( "芯片与光刻机区别")
- 芯片与光刻机的区别是，芯片是产品，而光刻机是工具。芯片是由硅晶圆加工而成的，使用光刻机、蚀刻机、离子注入机等设备进行多次曝光、蚀洗、离子注入，才能得到一颗芯片。一台euv光刻机大约每天能加工八百片晶圆，以12寸晶圆尺寸来说，每片五百颗，产能大约是40万颗芯片。...
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![存储芯片制造需要光刻机吗]( "存储芯片制造需要光刻机吗")
- 不是必须的。存储芯片在DDR4级别是不需要光刻机的，韩国三星电子将开始使用阿斯麦的EUV光刻机来生产存储芯片领域最小的14纳米DRAM芯片，按照三星电子的说法，三星最新研发的14纳米DRAM将达到7.2Gbps的数据读取速度，这个数据已经是DDR4的两倍之多。...
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![光刻机环境要求]( "光刻机环境要求")
- 需要超洁环境。光刻机的环境要求是超洁环境。光刻机作为最顶级的大型精密设备，对外部环境要求非常苛刻。光刻机本身是对纳米结构进行加工，而通常一粒细小的灰尘都有一百纳米以上，足够毁掉一颗芯片，所以光刻机要求超洁环境，比外部普通环境洁净一万倍。而且还要恒温恒湿，温度恒定...
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![荷兰光刻机价格]( "荷兰光刻机价格")
- 大约1.5亿欧元。荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非...
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![蔡司光刻机镜头是怎么做的]( "蔡司光刻机镜头是怎么做的")
- 蔡司光刻机镜头最主要的是打磨。拥有高数值孔径的光学镜头是决定光刻机的分辨率和阈值误差能力。而分辨率和套值误差能力对于一台光刻机具有至关重要的重要性。而世界上最为先进的EUV极紫外光刻机唯一可以使用的镜头就是由蔡司公司生产的镜头。蔡司光刻机中每一块透镜的...
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![湖南光刻机先进吗]( "湖南光刻机先进吗")
- 不先进，众所周知，光刻机是生产芯片的关键设备，向7nm、5nm这样的先进芯片的生产还得依赖由荷兰光刻机巨头ASML打造的EUV光刻机才能实现，而我国正式因为缺乏先进的光刻机设备才一直没有办法突破国产芯，目前我国国产光刻机的精度仅为90nm，上海微电子虽然已经成功研制出了生产28nm...
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![天原股份属于光刻机吗]( "天原股份属于光刻机吗")
- 不属于光刻机。天原股份从事于基本都化合原料和有机合成的化学原料生产以及各种化工产品的生产制造、销售和进出口业务，涉及化工、矿业、物流、建材等领域。包括塑料制品、建材、电器仪表、香料生产以及电力业务。天原股份不制造光刻机及相关零部件。所以天原股份不属于光...
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![什么叫光刻机]( "什么叫光刻机")
- 就是制造晶圆芯片的机器，其实速个机器就是一个系统，就是把经过切割的很薄的硅晶片，经过光刻机一道道的工序系统，把硅晶片再切割划分成很多个小区，然后用光刻机的光和热对小区进行一道道加工，使小区由绝缘转变成能够导电的导体，半导体和具有电阻性质的电阻，具有电容性质的电容。这...
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![3纳米光刻机有多少国家能造]( "3纳米光刻机有多少国家能造")
- 没有国家能造光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难！全球只有3个国家能造。在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本、中国也可以制造光刻机。但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今都没能突破尖端技术。只有荷兰的ASML能造，事实上，并没...
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![中国28nm光刻机靠谱吗]( "中国28nm光刻机靠谱吗")
- 中国28nm光刻机靠谱，确实中芯国际研发的首台。中国国产的芯片制造技术，仍大幅度落后于国际。由中芯国际研发的光刻机，还处于28nm工艺的水平，和国际主流的7nm工艺，还有很大的差距。预计在今年下半年开始，国际芯片制造将迈入5nm工艺时代。至于网上流传的中芯国际成功研制7nm光刻...
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![光刻机属于材料学吗]( "光刻机属于材料学吗")
- 有属于材料学的部分。光刻机是非常复杂的大型设备，涉及光电学、机械学、物理、化工、材料学等众多学科。其中光刻材料是指光刻工艺中用到的增粘材料、抗反射涂层、光刻胶、化学溶剂和显影液，还包括193nm浸没式光刻中用到的抗水涂层等。当然光刻机是不属于材料学，而是包含材...
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![国内目前光刻机处于怎样的水平]( "国内目前光刻机处于怎样的水平")
- 我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口...
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![能造光刻机的三个国家]( "能造光刻机的三个国家")
- 荷兰，日本，中国。目前在制造光刻机领域中，荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%.日本和中国也可以制造出光刻机。日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子。...
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![红外芯片需要光刻机吗]( "红外芯片需要光刻机吗")
- 一般情况是不需要的。光刻机普遍使用在技术水平较高，应用场景较复杂的芯片制造过程之中。常常需要涉及到运算和转码，所以芯片制造之中会需要光刻机来完成集成电路的核心制作。但是红外芯片一般只是服务于红外传感器，要求的精度和实现的功能并不多。...
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![光刻机曝光之后的步骤]( "光刻机曝光之后的步骤")
- 步骤是后烘工序。光刻机曝光之后的步骤是后烘工序。光刻工序流程为：衬底清洗、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、定影、坚膜、图形转移、去胶等。光刻工序曝光之后的步骤是后烘，即对光刻胶膜的烘烤。...
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![洛阳光刻机有哪些厂]( "洛阳光刻机有哪些厂")
- 洛阳还没有光刻机厂。国产光刻机的开发只有一家，那就是上海微电子装备公司。但微电子目前生产出来的光刻机还比较落后，2021年计划交付的首台国产光刻机还是28纳米的，这与荷兰ASML还有着相当大的差距，就目前来讲，技术相差十年二十年都不为过。...
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![超导量子芯片比光刻机先进吗]( "超导量子芯片比光刻机先进吗")
- 应该说各有优势。光刻机和量子芯片的区别，一个是生产设备是制造工具，另一个是设备制造的产品。两者处于产业链不同位置。目前量子芯片还未商业化，而且还处于比较简单的集成电路状态，还未达到能够使用光刻机这类大型精密光电设备批量制造的程度。...
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![光刻机一分钟能做多少个芯片]( "光刻机一分钟能做多少个芯片")
- 一分钟大约9000个芯片。根据ASML此前公布的数据显示，在熟练操作员的操作下，EUV光刻机的处理能力为200片12寸晶圆/小时。实际操作中最高为每小时处理100片左右，一天工作下来也就是1000片。也就是一分钟16片晶圆，如果以每片晶圆出500颗芯片，那么EUV光刻机每分钟可以做9000个芯片...
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