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清洗硅片有髒污什麼原因

清洗硅片有髒污什麼原因

清洗硅片有髒污什麼原因

切割液影響。切割液的主要成分是聚乙二醇,另外還包括脂肪酸、脂肪酸鹽、表面活性劑、消泡劑和水等成分。性能優良的切割液具有良好的懸浮性、冷卻性和易清洗性。由於砂漿是由碳化硅和切割液混合成的,在切割過程中起切割作用的是碳化硅顆粒,隨着鋼線的轉動,碳化硅顆粒包裹在鋼線表面對硅塊進行磨削切割,因此切割液須具有良好的懸浮性保證碳化硅顆粒能均勻地分散在鋼線表面且不會在砂漿中產生沉澱。切割過程中,由於碳化硅顆粒和硅塊的摩擦作用會產生較多熱量,切割液的冷卻性能可以降低砂漿溫度,防止高溫造成硅片灼傷。

切割液的易清洗性能則會對硅片外觀質量產生直接影響,硅片表面髒污片的產生與此有重要關係,因此要求切割液須滿足以下參數要求:切割液的粘度須保證碳化硅顆粒的懸浮效果、又可以保證砂漿在線鋸上的適度附着,增強砂漿的熱傳導效率,切割液的粘度範圍爲45-60pas切割液的酸鹼性,不僅直接影響硅片表面的潔淨度,還會影響設備的使用壽命,故切割液的酸鹼性不易過強,通常爲5-7。

標籤: 髒污 清洗 硅片
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