光电芯片制造工艺详解

第一步 晶圆加工

所有半导体工艺都始于一粒沙子！因为沙子所含的硅是生产晶圆所需要的原材料。晶圆加工就是制作获取上述晶圆的过程。

第二步 氧化

氧化过程的作用是在晶圆表面形成保护膜。它可以保护晶圆不受化学杂质影响、避免漏电流进入电路、防止晶圆在刻蚀时滑脱。

第三步 光刻

光刻是通过光线将电路图案“印刷”到晶圆上，可以理解为在晶圆表面绘制半导体制造所需的平面图。

第四步 刻蚀

在晶圆上完成电路图的光刻后，就要用刻蚀工艺来去除任何多余的氧化膜且只留下半导体电路图。

第五步 薄膜沉积

创建芯片内部的微型器件，不断沉积一层层的薄膜并通过刻蚀去除掉其中多余的部分，还要添加一些材料将不同的器件分离开。

第六步 · 互连

半导体的导电性处于导体与非导体（即绝缘体）之间，这种特性使我们能完全掌控电流。

第七步 测试

测试的主要目标是检验半导体芯片的质量是否达到标准，消除不良产品、提高芯片的可靠性。

第八步 · 封装

经过之前几个工艺处理的晶圆上会形成大小相等的方形芯片（又称“单个晶片”）。